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洗滌劑真空均質乳化機

洗滌劑真空均質乳化機在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。

  • 產品型號:XMD
  • 廠商性質:生產廠家
  • 更新時間:2025-09-05
  • 訪  問  量:2838
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詳細介紹

洗滌劑真空均質乳化機,洗滌劑真空均質分散機,洗滌劑加熱型分散機,洗滌劑均質攪拌分散機

一、洗滌劑

洗滌劑(Detergent) 是通過洗凈過程用于清洗而專門配制的產品。主要組分通常由表面活性劑、助洗劑和添加劑等組成。洗滌劑的種類很多,按照去除污垢的類型,可分為重垢型洗滌劑和輕垢型洗滌劑;按照產品的外形可分為粉狀、塊狀、膏狀、漿狀和液體等多種形態

 

二、洗滌劑生產工藝及相關設備

液體合成洗滌劑的生產工藝比較簡單,主要設備是帶有攪拌器的攪拌罐。攪拌罐須用不銹鋼制成,攪拌機須能變速。攪拌機的槳葉的必須定位恰當,要使上一層的槳葉正好浸在液面下,以防攪拌時帶進大量空氣。攪拌罐一般須有夾套,夾套內通水蒸氣和水,通過對蒸汽量和水量的調節達到用熱水加溫或用冷水降溫的目的。攪拌罐頂部配有高剪切乳化機進行乳化分散。有特別的工藝需要,得到細化更好的效果配置一臺管線式乳化機。  制造方法如下所示。

 

將規定數量的去離子水加到攪拌罐內,調節夾套內的水蒸氣和水量進行水浴加溫,同時開動攪拌機和高剪切高速乳化機。 

當鍋內水溫升到40℃時,慢慢投入AES,邊加邊攪拌,加完后繼續攪拌,直到全部溶解為止。在此階段,水溫保持℃40,不超過50℃。  

保持料溫40-50℃,在繼續攪拌的條件下依次加入LAS、AEO-9、6501(烷基醇酰胺)、氧化胺等,一直攪拌分散到混合均勻為止。 

降溫到40℃以下加香精、著色劑、防腐劑及增溶劑。 

測溶液ph值,酌加ph值調節劑調節ph值,調節劑調節ph值至定值。 

加食鹽調節到所需粘度。食鹽進行粘度的終調節。調節前應先把產品冷卻到環境溫度或測粘度的標準溫度。 

在配制過程中,應該非凡注重兩點:*,一定要把AES慢慢加進水中,而決不直接加水來溶解AES,否則可能形成一種粘度很大的凝膠;第二,AES在高溫下很輕易水解,因此整個操作溫度應控制在40℃左右,不應超過60℃。 

對含有AES的配方來說,若總活性物濃度超過28%,則應先將其余的表面活性劑及大量的與增溶劑拌入40℃的水中,攪拌到物料*溶解后再加AES。

 

三、洗滌劑的配制技術

液體洗滌劑和顆粒固體洗滌劑不同的是,液體洗滌劑不需另外加工成為一定的商品型式,這是液體洗劑在技術上的一個優點。要注重的是,假如包裝不好或儲藏過久,則有發干或混濁的現象。液體產品所用的原料應當含鹽類越少越好,環氧乙烷的縮合物不含電解質,所以是這方面的理想原料。 

一個典型的強效型液體洗滌劑配方大致包含下列幾種成分。 活性成分(占10%-15%)在結構適于制造液體洗滌劑的有: 

a.非離子表面活性劑,如環氧乙烷和烷基酚、脂肪醇、脂肪酸等的縮合物以及這些產物的含氮衍生物; 

b.仲烷基硫酸鈉; 

c.磺酸和磺酸酯被氨或醇胺中和的產品——脂肪醇硫酸銨、烷基苯磺酸乙醇胺鹽。 泡沫穩定劑(占5%) 通常采用烷基醇酰胺,除了有穩定泡沫的作用外,還有較好的洗滌能力和增溶作用,并能增加液體的粘度。 

堿性助劑(占10-15%) 如三聚磷酸鹽、硅酸鹽、碳酸鹽、碳酸鹽等,大多采用溶解度較大的鉀鹽或銨鹽。 

增溶劑(占5%) 如甲苯磺酸鹽、尿素等。 

溶劑(占10%) 如乙醇、異丙醇,用以降低液體的凍點。 其他(占1%) 如CMC、增白劑、香精、色料等。 水(占60-70%)。 

液體洗滌劑成品可用手工方法或自動調和分裝在瓶內,一切分裝液體的設備都適用于液體滌劑。

四、洗滌劑真空均質乳化機

研磨乳化設備是由膠體磨分散機組合而成的高科技產品。

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的轉子之間距離。在增強的流體湍流下。凹槽在每級口可以改變方向。
第二級由轉定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度的物質以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區別不光是轉子齒的排列,還有一個很重要的區別是不同工作頭的幾何學征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉子工作頭的不同功能。

 

五、XMD研磨乳化機主要參數

以下為型號表供參考:

型號

標準流量

L/H

輸出轉速

rpm

標準線速度

m/s

馬達功率

KW

進口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

 

采用XMD2000/4研磨分散機,進行研磨細化。

7L罐體(罐體大小后期可選擇)及循環系統,易于批次物料處理。

攪拌機進行攪拌預混,提高產品的均勻性。

我司研磨分散機為超高速設備(轉速18000rpm),需要配冷水機對機械密封進行降溫。

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